Winter Play
Source-attributed Nano Banana Pro image prompt from the Awesome Nano Banana Pro Prompts repository with preview image and reuse review notes.
To jest przykładowy przykład Nano Banana Pro dla Portrait Photography . Skorzystaj z poniższego przykładu gotowego do skopiowania, aby wygenerować podobne materiały wizualne i sprawdź atrybucję Awesome Nano Banana Pro Prompts oraz prawa do użytku komercyjnego przed ponownym wykorzystaniem.
Potrzebujesz pełnego zestawu podpowiedzi? Użyj Portrait Photography aby uzyskać więcej powiązanych przykładów, odwiedź centrum tematyczne lub otwórz Nano Banana Pro szybki katalog aby zobaczyć pełny przykładowy indeks, struktury wielokrotnego użytku i informacje o źródle.
Opis
Monit o przygotowanie do kopiowania
Photorealistic winter fashion portrait, low-level perspective, with a boot in the foreground pointing towards the camera (appearing larger due to the perspective). The young woman(exactly the same as the reference image) is reclining/sitting in the fresh snow, wearing a light beige faux fur coat, a matching short ribbed sweater dress, a light beige fur hat, and light beige lace-up winter boots. Long wavy hair, playful expression, lips slightly parted. High-brightness snow background with a slight sky gradient, minimalist scene. Face and hat in sharp focus, boot in the foreground slightly softened, fabric and fur textures well defined. Editorial aesthetic, soft cloudy daylight, 24–35mm wide-angle lens, f/2.8–4, high definition, no text and no watermark. Use the attached image. Do not alter the face and hair.
Więcej przypadków w tej kategorii
Priorytety według kategorii, zgodności trybu wprowadzania, jakości i niższego ryzyka.
Ponowne wykorzystanie i źródło notatek
Użyj tego monitu bezpiecznie po zapoznaniu się ze sprawą.
- 1.Skopiuj monit lub otwórz go bezpośrednio w Dovoo za pomocą przycisku generowania.
- 2.Dostosuj zmienne, proporcje obrazu i obrazy referencyjne do własnego przypadku użycia.
- 3.Przed publikacją lub płatnym wykorzystaniem należy sprawdzić prawa autorskie do źródła, wymogi dotyczące atrybucji oraz ryzyko związane z marką lub podobizną.