Embrace Experiences That Elevate You
Source-attributed Nano Banana Pro image prompt from the Awesome Nano Banana Pro Prompts repository with preview image and reuse review notes.
To jest przykładowy przykład Nano Banana Pro dla Portrait Photography . Skorzystaj z poniższego przykładu gotowego do skopiowania, aby wygenerować podobne materiały wizualne i sprawdź atrybucję Awesome Nano Banana Pro Prompts oraz prawa do użytku komercyjnego przed ponownym wykorzystaniem.
Potrzebujesz pełnego zestawu podpowiedzi? Użyj Portrait Photography aby uzyskać więcej powiązanych przykładów, odwiedź centrum tematyczne lub otwórz Nano Banana Pro szybki katalog aby zobaczyć pełny przykładowy indeks, struktury wielokrotnego użytku i informacje o źródle.
Opis
Monit o przygotowanie do kopiowania
A cheerful person (use the provided image for accurate facial features) glides on a zip line between modern skyscrapers in a large metropolis. He smiles confidently, wearing a black protective helmet, black tactical gloves, a white t-shirt, and black pants, secured by a full safety harness. The camera angle is dynamic, in first-person or action camera perspective, as if he were holding a 360 camera stick with one hand while gliding through the cityscape. The background displays tall glass skyscrapers, busy streets, and an urban landscape seen from above during the golden hour, with warm sunlight reflecting off the buildings. Highly realistic composition, sharp, vibrant, adventurous, and energetic, cinematic lighting, ultra-detailed, high resolution, 8K photography style.
Więcej przypadków w tej kategorii
Priorytety według kategorii, zgodności trybu wprowadzania, jakości i niższego ryzyka.
Ponowne wykorzystanie i źródło notatek
Użyj tego monitu bezpiecznie po zapoznaniu się ze sprawą.
- 1.Skopiuj monit lub otwórz go bezpośrednio w Dovoo za pomocą przycisku generowania.
- 2.Dostosuj zmienne, proporcje obrazu i obrazy referencyjne do własnego przypadku użycia.
- 3.Przed publikacją lub płatnym wykorzystaniem należy sprawdzić prawa autorskie do źródła, wymogi dotyczące atrybucji oraz ryzyko związane z marką lub podobizną.