Singapore Marina Bay Sands – Futuristic Night Fashion
Source-attributed Nano Banana Pro image prompt from the Awesome Nano Banana Pro Prompts repository with preview image and reuse review notes.
Ini adalah contoh kasus Nano Banana Pro untuk Portrait Photography . Gunakan contoh siap salin di bawah ini untuk menghasilkan visual serupa, dan tinjau atribusi Awesome Nano Banana Pro Prompts serta hak penggunaan komersial sebelum digunakan kembali.
Butuh seluruh rangkaian prompt? Gunakan Portrait Photography Untuk contoh terkait lainnya, kunjungi pusat topik, atau buka Nano Banana Pro katalog cepat untuk indeks contoh lengkap, struktur yang dapat digunakan kembali, dan atribusi sumber.
Mengingatkan
Prompt siap salin
Use the uploaded image as the face reference, keeping the facial features Same. A futuristic nighttime portrait near Marina Bay, Singapore. Costume: black satin bomber jacket with iridescent paneling, fitted trousers, mirror-polished shoes. Environment: neon-lit skyline, glass architecture reflecting city lights, water reflections from the bay creating soft motion shimmers. Lighting: purple and teal neon, LED walkway strips creating edge highlights, soft fill from building glass. Camera Setup: Sony A7SIII, 35mm f/1.4; ISO 1250; low shutter for slight reflection motion; handheld dynamic framing. Pose: leaning against stainless steel railing, gazing toward skyline, slight wind moving hair. Composition: reflective surfaces doubling subject silhouette; strong geometric lines. Output: 8K crystal-clear night rendering.
Lebih banyak kasus dalam kategori ini
Diprioritaskan berdasarkan kategori, kompatibilitas mode input, kualitas, dan risiko yang lebih rendah.
Catatan penggunaan kembali dan sumber
Gunakan perintah ini dengan aman setelah melihat pratinjau kasus.
- 1.Salin perintah tersebut atau buka langsung di Dovoo dengan tombol pembuatan.
- 2.Sesuaikan variabel, rasio aspek, dan gambar referensi untuk kebutuhan Anda sendiri.
- 3.Sebelum mempublikasikan atau menggunakan untuk tujuan berbayar, verifikasi hak sumber, persyaratan atribusi, dan risiko merek atau citra.